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Horno sin oxígeno de alta temperatura
Los hornos anaeróbicos de alto rendimiento son capaces de un tratamiento térmico a temperaturas de hasta 500 ° C en una atmósfera con una concentració
Detalles del producto
I. Resumen del equipo
Los hornos anaeróbicos de alto rendimiento son capaces de un tratamiento térmico a temperaturas de hasta 500 ° C en una atmósfera con una concentración de oxígeno tan baja como 500 ppm. Esto hace que la serie sea muy adecuada para el desengrasado de mlcc y ltcc, así como para todo tipo de tratamientos térmicos antioxidantes. El horno anaeróbico de alta temperatura utiliza una estructura de cámara exclusiva y tecnología de sellado, que tiene una excelente estanqueidad y uniformidad de temperatura, al tiempo que garantiza una mayor estabilidad y reproducibilidad. Al mismo tiempo, se utiliza un mecanismo de enfriamiento externo que circula por agua de enfriamiento, que puede enfriarse rápidamente sin afectar la atmósfera en el horno, reduciendo así el tiempo de tratamiento.
II. ámbito de aplicación
Adecuado para obleas semiconductoras curadas (fotorresistente pi, curado pbo), encapsulamiento IC (sustrato de cobre, pegamento de plata, silicona, resina epoxi), horneado de sustrato de vidrio, tratamiento de recocido de alta precisión, etc.
| Alcance de la aplicación |
Propósito del calentamiento |
Objeto de calentamiento |
| Componentes electrónicos |
Desengrasado (sinterización de adhesivos), curado |
Materiales / placas cerámicas, mlcc (condensadores cerámicos multicapa), ltcc (cerámica Co - quemada a baja temperatura), sensor de O2 cerámico, núcleo de ferrita, FPC (circuito impreso flexible), filtro de ruido de modo común, Termistor |
| Materias primas de precisión |
Desengrasado, curado, recocido, sinterización, secado |
Obleas, pastillas de silicio, cerámica de carburo de silicio, ventosas electrostáticas, nitruro de aluminio, lentes ópticas, sustratos flexibles, baterías de carga, materiales de electrodos, arneses de cables (cables de cobre), catalizadores, productos forjados |
III. parámetros del producto
Modelo |
YH-OXY-500C |
Rango de estabilidad laboral |
Temperatura ambiente - 500 ℃. |
Contenido límite de oxígeno |
Dentro de 50 ppm |
Método de enfriamiento |
Enfriamiento por agua |
Tamaño | |||
Tamaño de trabajo |
H600 * W600 * D600mm |
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Estudio | |||
Número de estudios |
Estudio individual, el estudio se puede dividir en 4 plantas |
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Configuración interna |
Está equipado con 4 soportes de acero inoxidable, envueltos en placas de malla de acero inoxidable en los estantes, y el espaciamiento de los estantes se puede ajustar. |
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Sistema de calefacción de transporte de aire | |||
Tasa de calentamiento |
La tasa de calentamiento es de 8 - 10 ° C / min, y el tiempo de temperatura constante es controlable. |
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Tasa de enfriamiento |
Enfriamiento a 500 ° C a 100 ° C ≤ 50 minutos (dependiendo de la temperatura del agua de enfriamiento, el tiempo varía) |
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Dispositivo de carga de nitrógeno |
Controlar automáticamente el proceso de carga de nitrógeno para garantizar que el producto se caliente en un ambiente sin oxígeno o bajo oxígeno para evitar que el producto se oxida. |
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Electrodomésticos | |||
Dispositivo de protección contra sobretemperatura |
Controlador de temperatura inteligente independiente, cuando la temperatura real de detección supera el valor establecido del protector de sobretemperatura, se corta automáticamente la fuente de alimentación de calefacción, doble efecto de protección |
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Sistema de protección |
El equipo incluye detección de falta de fase, autodiagnóstico, protección contra fugas, protección contra sobretemperatura, conservación autónoma de parámetros de emergencia, autodiagnóstico de sensores, protección contra sobrecarga, protección contra puesta a tierra, protección contra sobrecalentamiento de ventiladores, control de acceso a la batería, protección contra la estancia del operador |
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Entorno de uso |
Condiciones ambientales: entre 5 y 40 ° c: humedad ≤ 85% r.h 电源： AC380V, 50HZ Entorno de uso: sin vibraciones fuertes, sin influencia de campos magnéticos fuertes, sin gas corrosivo, sin polvo. Presión atmosférica 86 a 106 ka Fuente de nitrógeno: 0,8 mpa, 100 l / min Distancia de la pared ≥ 500 mm |
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