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BMM - 230bd TIC microscopio metalográfico invertido de interferencia diferencial de campo oscuro claro
BMM - 230bd TIC microscopio metalográfico invertido de interferencia diferencial de campo oscuro claro
Detalles del producto
Uso del instrumento:
BMM-230BDDICEl microscopio metalográfico invertido utiliza un excelente sistema óptico infinitamente lejano, que puede proporcionar excelentes propiedades ópticas. El cuerpo compacto y estable de alta rigidez refleja plenamente los requisitos antivibración de la micromanipulación. El diseño funcional modular puede actualizar fácilmente el sistema y realizar funciones como la observación de polarización, la observación de campo oscuro y la observación de interferencia diferencial de campo abierto. El sistema de iluminación tiene plenamente en cuenta la disipación de calor y la seguridad, y puede reemplazar rápidamente la bombilla. El diseño ideal que cumple con los requisitos de ergonomía hace que la operación sea más conveniente, cómoda y más amplia. Se puede utilizar en obleas de silicio semiconductor,LCDLa observación microscópica de sustratos y polvos sólidos que no son iguales a otras muestras industriales es un instrumento ideal para la investigación en materiales, ingeniería electrónica de precisión y otros campos.
Características de rendimiento:
▲ 2 También se puede observar al microscopio muestras con forma irregular o grande.
▲ 2 Equipado con gafas de visión grande y lentes acromáticas de campo plano de distancia de trabajo infinitamente larga, el campo de visión es grande y claro.
▲ 2 Sistema único de protección contra vibraciones y moho
Introducción al sistema:
Este sistema es un producto de alta tecnología desarrollado con éxito que combina perfectamente la tecnología de microscopía óptica de élite, la tecnología avanzada de conversión fotoeléctrica y la tecnología de procesamiento de imágenes por computadora de vanguardia. Las imágenes metalográficas se pueden observar fácilmente en el monitor del ordenador, por lo que el mapa metalográfico se puede analizar, calificar, etc., para exportar e imprimir las imágenes.
Introducción del producto:
Parámetros técnicos:
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Especificaciones técnicas |
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Gafas oculares |
Gran visión Sin diferencia de colorSWF10X(Número de campos de visiónΦ22mm) |
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Objetivo (con una preparación clara/.Lente de interferencia diferencial de campo oscuro)
|
Lente acromática de campo plano de larga distancia infinita (vidrio sin tapa) |
|
LMPlan5X/0.12 BDDICDistancia de trabajo:7.9 mm |
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|
LMPlan10X/0.3 BDDICDistancia de trabajo:6.03 mm |
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|
LMPlan20X/0.4 BDDICDistancia de trabajo:1.4 mm |
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|
PL L50X/0. 70BDDistancia de trabajo:2.5 mm |
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Placa de inserción de contraste de fase de interferencia diferencial |
Aplicable aLMPlan5X、10X、20XBD DICObjetivo |
|
Tubo ocular |
45˚Inclinación,Rango de ajuste de la distancia pupilar53~75mm. |
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Mecanismo de enfoque |
Enfoque concéntrico de preocupación gruesa,Con dispositivo de bloqueo y límite,Valor de la cuadrícula de preocupación:2.0μm. |
|
Convertidor |
Cinco agujeros(Posicionamiento interior de la bola introvertida(...) |
|
Plataforma de carga |
Plataforma de carga móvil mecánica, tamaño exterior:242mmX200mm, rango de movimiento30mmX30mm. |
|
Tamaño de la placa de carga giratoria redonda: diámetro exterior máximo130mm, el calibre mínimo de luz es inferior a20mm. |
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|
Sistema de iluminación |
12V50WLámpara halógena, brillo ajustable |
|
Máscara de campo de visión incorporada, máscara de apertura y polarizador de placa de tracción |
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|
Con vidrio esmerilado, filtros amarillos, verdes y azules |
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Configuración del sistema:
Uso del instrumento:
BMM-230BDDICEl microscopio metalográfico invertido utiliza un excelente sistema óptico infinitamente lejano, que puede proporcionar excelentes propiedades ópticas. El cuerpo compacto y estable de alta rigidez refleja plenamente los requisitos antivibración de la micromanipulación. El diseño funcional modular puede actualizar fácilmente el sistema y realizar funciones como la observación de polarización, la observación de campo oscuro y la observación de interferencia diferencial de campo abierto. El sistema de iluminación tiene plenamente en cuenta la disipación de calor y la seguridad, y puede reemplazar rápidamente la bombilla. El diseño ideal que cumple con los requisitos de ergonomía hace que la operación sea más conveniente, cómoda y más amplia. Se puede utilizar en obleas de silicio semiconductor,LCDLa observación microscópica de sustratos y polvos sólidos que no son iguales a otras muestras industriales es un instrumento ideal para la investigación en materiales, ingeniería electrónica de precisión y otros campos.
Características de rendimiento:
▲ 2 También se puede observar al microscopio muestras con forma irregular o grande.
▲ 2 Equipado con gafas de visión grande y lentes acromáticas de campo plano de distancia de trabajo infinitamente larga, el campo de visión es grande y claro.
▲ 2 Sistema único de protección contra vibraciones y moho
Introducción al sistema:
Este sistema es un producto de alta tecnología desarrollado con éxito que combina perfectamente la tecnología de microscopía óptica de élite, la tecnología avanzada de conversión fotoeléctrica y la tecnología de procesamiento de imágenes por computadora de vanguardia. Las imágenes metalográficas se pueden observar fácilmente en el monitor del ordenador, por lo que el mapa metalográfico se puede analizar, calificar, etc., para exportar e imprimir las imágenes.
Introducción del producto:
Parámetros técnicos:
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Especificaciones técnicas |
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Gafas oculares |
Gran visión Sin diferencia de colorSWF10X(Número de campos de visiónΦ22mm) |
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Objetivo (con una preparación clara/.Lente de interferencia diferencial de campo oscuro)
|
Lente acromática de campo plano de larga distancia infinita (vidrio sin tapa) |
|
LMPlan5X/0.12 BDDICDistancia de trabajo:7.9 mm |
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|
LMPlan10X/0.3 BDDICDistancia de trabajo:6.03 mm |
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LMPlan20X/0.4 BDDICDistancia de trabajo:1.4 mm |
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PL L50X/0. 70BDDistancia de trabajo:2.5 mm |
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Placa de inserción de contraste de fase de interferencia diferencial |
Aplicable aLMPlan5X、10X、20XBD DICObjetivo |
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Tubo ocular |
45˚Inclinación,Rango de ajuste de la distancia pupilar53~75mm. |
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Mecanismo de enfoque |
Enfoque concéntrico de preocupación gruesa,Con dispositivo de bloqueo y límite,Valor de la cuadrícula de preocupación:2.0μm. |
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Convertidor |
Cinco agujeros(Posicionamiento interior de la bola introvertida(...) |
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Plataforma de carga |
Plataforma de carga móvil mecánica, tamaño exterior:242mmX200mm, rango de movimiento30mmX30mm. |
|
Tamaño de la placa de carga giratoria redonda: diámetro exterior máximo130mm, el calibre mínimo de luz es inferior a20mm. |
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Sistema de iluminación |
12V50WLámpara halógena, brillo ajustable |
|
Máscara de campo de visión incorporada, máscara de apertura y polarizador de placa de tracción |
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|
Con vidrio esmerilado, filtros amarillos, verdes y azules |
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Configuración del sistema:
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